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Découvrez les propriétés réparatrices de la centella asiatica avec le masque en tissu Goodbye Redness de la marque de beauté coréenne Benton. Riche en acides aminés, en bêta-carotène, en acides gras et en de nombreux composés phytochimiques puissants, ce puissant ingrédient apporte un soulagement apaisant aux peaux rouges, irritées et qui démangent. Apaisant les teints sensibles et à tendance acnéique, il aide à accélérer le processus naturel de guérison de la peau en stimulant l’activité des antioxydants au site de l’inflammation, ce qui permet de prévenir les cicatrices et les futures éruptions.
Conçu pour adhérer parfaitement aux contours de votre visage, le masque en tissu est saturé d’une essence haute performance, contenant une concentration de 45 % d’eau de feuille de centella asiatica, ainsi qu’un extrait de la plante et de l’acide hyaluronique. Profondément hydratant et apaisant, ce masque laisse votre peau plus claire, plus lumineuse et plus calme en 15 à 20 minutes.
Idéal pour les peaux sensibles, sujettes aux rougeurs et aux inflammations. Sans parfum.
Testé sous contrôle dermatologique. pH 6 légèrement acide.
Sa formule « 20-free » ne contient aucun ingrédient controversé, alcool volatile, PEG ou silicones. Non testé sur les animaux.
Centella Asiatica Leaf Water, Aqua (Water), Glycerin, Pentylene Glycol, Butylene Glycol, Microcrystalline Cellulose, Centella Asiatica Extract, Sodium Gluconate, Sodium Hyaluronate, Propanediol, Dipotassium Glycyrrhizate, Asiatic Acid, Madecassic Acid, Asiaticoside, Madecassoside, Portulaca Oleracea Extract, Xanthan Gum, Cellulose Gum, Caprylic/Capric Triglyceride, Hydrogenated phosphatidylcholine, 1,2-Hexanediol, Cetearyl Alcohol, Sucrose Stearate.
- Skin Care
- Benton
Benton Goodbye Redness Centella Mask Pack 20g
-
Sans Cruauté
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Découvrez les propriétés réparatrices de la centella asiatica avec le masque en tissu Goodbye Redness de la marque de beauté coréenne Benton. Riche en acides aminés, en bêta-carotène, en acides gras et en de nombreux composés phytochimiques puissants, ce puissant ingrédient apporte un soulagement apaisant aux peaux rouges, irritées et qui démangent. Apaisant les teints sensibles et à tendance acnéique, il aide à accélérer le processus naturel de guérison de la peau en stimulant l’activité des antioxydants au site de l’inflammation, ce qui permet de prévenir les cicatrices et les futures éruptions.
Conçu pour adhérer parfaitement aux contours de votre visage, le masque en tissu est saturé d’une essence haute performance, contenant une concentration de 45 % d’eau de feuille de centella asiatica, ainsi qu’un extrait de la plante et de l’acide hyaluronique. Profondément hydratant et apaisant, ce masque laisse votre peau plus claire, plus lumineuse et plus calme en 15 à 20 minutes.
Idéal pour les peaux sensibles, sujettes aux rougeurs et aux inflammations. Sans parfum.
Testé sous contrôle dermatologique. pH 6 légèrement acide.
Sa formule « 20-free » ne contient aucun ingrédient controversé, alcool volatile, PEG ou silicones. Non testé sur les animaux.
Centella Asiatica Leaf Water, Aqua (Water), Glycerin, Pentylene Glycol, Butylene Glycol, Microcrystalline Cellulose, Centella Asiatica Extract, Sodium Gluconate, Sodium Hyaluronate, Propanediol, Dipotassium Glycyrrhizate, Asiatic Acid, Madecassic Acid, Asiaticoside, Madecassoside, Portulaca Oleracea Extract, Xanthan Gum, Cellulose Gum, Caprylic/Capric Triglyceride, Hydrogenated phosphatidylcholine, 1,2-Hexanediol, Cetearyl Alcohol, Sucrose Stearate.
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